氧化代工
尺寸
3、4、6 inch
厚度
200nm-10um
TTV
＜±2%
技术指标：
注入能量
35-400KeV
尺寸
3,4,6,8 inch
注入离子种类
H+，H2+，H3+, He+, Ar+
技术指标：
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）代工
尺寸
3、4、6 inch
厚度
200nm-5μm
TTV
＜±5%
技术指标：
磁控溅射
尺寸
3、4 inch
金属
Cr、Au
厚度
100-400nm
TTV
＜±10%
技术指标：
离子注入代工服务
注入能量：35-400KeV
尺 寸 ：3,4,6,8 inch
体积小，稳定性好，带宽大，传输速率高，功耗低，CMOS 驱动电压兼容，可实现光集成。
X-BAR®铌酸锂薄膜滤波器优势：
K2>25%，大带宽（N77,N78,N79）；高频；温度稳定性好，可靠性高；散热好。
满足下一代无线网络所需的高带宽、高频射频市场